原位(wei)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)：氫能(neng)源與氯(lv)堿(jian)化工的(de)“精準(zhun)之(zhi)眼(yan)”，您真(zhen)的(de)用對(dui)了(le)嗎(ma)？

氫能(neng)源生(sheng)產、氯(lv)堿(jian)化工過程(cheng)中(zhong)，氧(yang)氣(qi)濃度監測稍有不(bu)慎(shen)便可能(neng)引發(fa)爆炸(zha)或生(sheng)產波動。傳統取樣(yang)式分(fen)析儀(yi)響(xiang)應(ying)慢(man)、維(wei)護(hu)頻，如(ru)何實(shi)現(xian)實(shi)時(shi)、無損的(de)氧(yang)氣(qi)檢(jian)測(ce)？原位(wei)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)以TDLAS技術為核(he)心，成為高(gao)風(feng)險(xian)工藝中的(de)“安(an)全哨(shao)兵(bing)"。作為原位(wei)對射(she)式在(zai)線(xian)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)廠(chang)家，艾伊(yi)科(ke)技AGA5000d系列憑(ping)借原位(wei)測量(liang)、抗幹(gan)擾強等(deng)特(te)性，為(wei)氫能(neng)、氯(lv)堿(jian)行(xing)業(ye)提供(gong)精準(zhun)監(jian)測(ce)解決(jue)方案(an)。

副(fu)標題(ti)：原位(wei)對射(she)式在(zai)線(xian)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)如何(he)破解化工氧(yang)氣(qi)監(jian)測(ce)痛點？

氫能(neng)源電(dian)解槽(cao)、氯(lv)堿(jian)化工離子膜(mo)電解槽(cao)等(deng)場景(jing)中(zhong)，氧(yang)氣(qi)濃度需嚴格(ge)控(kong)制(zhi)在(zai)0.1%-5%範(fan)圍(wei)內，超(chao)標(biao)或過低均會(hui)導致(zhi)效(xiao)率下降(jiang)甚(shen)至(zhi)事(shi)故(gu)。原位(wei)對射(she)式在(zai)線(xian)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)采(cai)用可調諧(xie)二極(ji)管激(ji)光吸(xi)收光譜(pu)（TDLAS）技術，直(zhi)接(jie)測(ce)量氣體(ti)窄帶吸收(shou)峰，無需取樣(yang)預處(chu)理，其(qi)核(he)心(xin)優勢包(bao)括(kuo)：

原位(wei)測量(liang)：激(ji)光對(dui)射(she)式設計(ji)，安(an)裝(zhuang)於(yu)管道或(huo)反(fan)應(ying)器(qi)兩(liang)側(ce)，實(shi)時(shi)反(fan)映真(zhen)實(shi)濃度，避(bi)免取(qu)樣誤(wu)差。

產品(pin)特(te)點(dian)

1、TDLAS可調諧(xie)半導體(ti)激(ji)光器(qi)檢(jian)測(ce)原理(li)，檢(jian)測(ce)精度高(gao)，響(xiang)應(ying)速度快，線(xian)性度好(hao)

2、直(zhi)接(jie)對(dui)氣體(ti)的(de)窄帶吸收(shou)峰進(jin)行(xing)測(ce)量(liang)，背景(jing)氣(qi)體(ti)幹(gan)擾小

3、原位(wei)測量(liang)，響(xiang)應(ying)速度快，保證(zheng)及(ji)時(shi)進(jin)行(xing)工藝控(kong)制(zhi)和(he)安(an)全監(jian)測(ce)

4、標準(zhun)信(xin)號(hao)輸(shu)出(chu)，可將(jiang)氣(qi)體(ti)濃度信號上(shang)傳(chuan)至(zhi)DCS/PLC等(deng)系統(tong)

5、防爆設(she)計，可用於(yu)爆炸(zha)性危(wei)險(xian)區域(yu)。

產品(pin)屬(shu)性

檢(jian)測(ce)氣體(ti)：氧(yang)氣(qi)、壹(yi)氧(yang)化碳(tan)、二氧(yang)化碳(tan)、氨氣(qi)、硫化氫、甲烷(wan)等(deng)

線(xian)性誤(wu)差：≤±1%F.S.(量程(cheng)>5%)/≤±2%F.S.(量程(cheng)<5%)

零點漂(piao)移：≤士1%F.S./半年

量程(cheng)漂(piao)移：≤士1%F.S./半年

維護(hu)周(zhou)期(qi)：≤2次/年(nian)，清潔光學(xue)視窗(chuang)(無消(xiao)耗(hao)品(pin))

標定(ding)周期(qi)：≤2次/年(nian)

氫能(neng)源與氯(lv)堿(jian)化工場景(jing)解決(jue)方案(an)

氫能(neng)電解槽(cao)控(kong)制(zhi)：實(shi)時(shi)監(jian)測(ce)陰(yin)極(ji)側氧(yang)氣(qi)濃度，聯動壓(ya)力調節閥(fa)，防(fang)止(zhi)氫氧(yang)混(hun)合(he)爆炸(zha)風(feng)險(xian)。

氯(lv)堿(jian)離子膜(mo)保護(hu)：監(jian)測(ce)陽極(ji)室(shi)氧(yang)氣(qi)濃度，避(bi)免因(yin)氧(yang)滲透導致(zhi)離子膜(mo)降(jiang)解，延長(chang)膜(mo)壽(shou)命(ming)20%以上(shang)。

合成氨工藝優化：通過氧(yang)氣(qi)濃度反(fan)饋(kui)調節空氣(qi)進(jin)氣(qi)量(liang)，提(ti)升氨合(he)成效(xiao)率，降(jiang)低(di)能(neng)耗(hao)。

案(an)例(li)佐證(zheng)：某氯(lv)堿(jian)企業(ye)電解槽(cao)曾因氧(yang)氣(qi)濃度波動導致(zhi)離子膜(mo)穿孔(kong)，改用AGA5000d後，系(xi)統(tong)實(shi)時(shi)將(jiang)氧(yang)氣(qi)濃度穩定(ding)在(zai)1.5%±0.2%，年節約膜(mo)更換(huan)成本(ben)超百萬(wan)元。

作為原位(wei)對射(she)式在(zai)線(xian)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)專(zhuan)業(ye)制(zhi)造(zao)商，艾(ai)伊(yi)科(ke)技提供(gong)從光學(xue)調試、數(shu)據(ju)校(xiao)準(zhun)到(dao)售(shou)後維(wei)護(hu)的(de)全流(liu)程(cheng)服(fu)務。

結(jie)語(yu)：在(zai)氫能(neng)、氯(lv)堿(jian)等(deng)高(gao)風(feng)險(xian)化工領(ling)域，氧(yang)氣(qi)濃度監測容(rong)不(bu)得半點偏(pian)差。選(xuan)擇(ze)原位(wei)激(ji)光氧(yang)分(fen)析儀(yi)，不僅(jin)是(shi)選(xuan)擇(ze)壹項技術，更是(shi)選(xuan)擇(ze)壹份(fen)對工藝安(an)全與效(xiao)率的(de)堅守(shou)。艾伊(yi)科(ke)技AGA5000d系列，以精(jing)準(zhun)、穩(wen)定(ding)、耐(nai)用的(de)特(te)性，重(zhong)新定(ding)義工業(ye)氧(yang)分(fen)析新(xin)標(biao)準(zhun)——讓(rang)氧(yang)氣(qi)濃度盡在(zai)掌控(kong)，讓生(sheng)產流(liu)程(cheng)安(an)心無憂。